스퍼터 코팅기 Leica EM ACE600

다양한 응용 분야를 위한 고진공 코팅 시스템

구성 가능한 금속 프로세스 챔버가 장착된 EM ACE600 스퍼터 코팅기는 유연하며 다양한 응용 분야에 맞게 조정할 수 있습니다. 단일 처리 프로세스에서 최대 두 개까지 서로 다른 소스를 실행하거나 진보된 극저온 워크플로우를 위해서도 EM ACE600 구성하여 사용자의 작업 흐름 목표를 달성하고 실험실 요구 사항을 충족시킵니다.

필요 여부에 따라

  • 평면 또는 구조화된 비전도성 시료의 고해상도 이미징 수행
  • 단백질 또는 DNA 가닥과 같은 나노미터 크기 구조의 명암 향상
  • TEM 그리드를 위한 얇지만 강력한 지지층 생성
  • 또는, 민감한 시료를 위한 보호막 제공
  • 극저온 응용 분야를 위해 시스템 확장

EM ACE600 탄소 및 스퍼터 코팅기로 커버할 수 있습니다.

극저온 운반 독 (dock)이 있는 EM ACE600 탄소, 전자 빔 및 스퍼터 코팅기
극저온 운반 독 (dock)이 있는 EM ACE600 탄소, 전자 빔 및 스퍼터 코팅기

스퍼터 코팅

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스퍼터 코팅으로 재현 가능한 고품질 박막

EM ACE600 고진공 코팅 시스템을 사용하면 실행할 때마다 고품질 스퍼터 코팅 박막을 일관되게 제작할 수 있습니다. 자동화된 레시피(receipt) 기반으로 된 스퍼터링 코팅 프로세스 통해 사용자의 진보된 코팅 요구들에 맞는 조건을 충족하고 재현 가능한 결과를 얻을 수 있습니다.

2x10-6mbar 이하의 우수한 기저 진공(base vacuum)과 다양한 스퍼터링 타겟들에 대한 미세하게 조정되는 프로세스 파라미터들로, 최대 200k배 이상의 고배율 SEM 분석을 수행합니다. 시료 거리와 코팅 각도는 시료 형태학적 필요에 따라 조정이 가능합니다.

코팅 결과를 더욱 향상시키기 위해, 마이스너(Meissner) 트랩을 사용하여 진공을 10-7 mbar 범위까지 올린 다음, 산소에 민감한 타겟 또는 시료 재료들에 대한 스퍼터링을 시도할 수 있습니다.

SiOx 기판 위에 증착된 다양한 재료의 2nm 두께의 미세 입자 스퍼터 코팅, 200k배 배율.
SiOx 기판 위에 증착된 다양한 재료의 2nm 두께의 미세 입자 스퍼터 코팅, 200k배 배율.

탄소 코팅

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탄소 코팅 처리된 재현 가능한 고품질 박막

EM ACE600을 사용하면 탄소 실 코팅이나 탄소 봉 코팅 또는 전자 빔 증발을 사용하여 고품질의 탄소 필름을 만들 수 있습니다.

탄소 실 증발(carbon thread evaporation)은

Leica Microsystems가 EM ACE600에 구현된 독특한 조정 가능한 펄스 접근방식을 개발한 이후로 널리 사용되는 방법이 되었습니다. 시료에 영향을 미치는 열을 최소화하면서 나노미터 이하의 두께로 정밀하고 견고한 비정질 필름을 만들 수 있습니다. 나노미터 두께의 얇고 튼튼하면서 깨끗한 TEM 지지막이나 확산(보호) 코팅 또는 넓은 균질의 탄소막이 필요하다면 탄소 실(carbon thread)이 올바른 선택입니다.

회전 음영 처리(rotary shadowing)와 같은 특정 목적을 위한 응용 분야를 위해, 전자 빔 증발기(e-beam evaporator)를 사용할 수 있습니다. 작은 빔 발산은 나노미터 크기 구조의 가장자리 명암을 향상 시키기 위한 음영 처리(shadowing) 코팅에 이상적입니다.

1~5nm 두께 탄소 필름의 정밀한 탄소 증착
1~5nm 두께 탄소 필름의 정밀한 탄소 증착

EM ACE600을 사용자의 필요에 맞게 조정합니다

EM ACE600에는 구성 가능한 대형 금속 프로세스 챔버 덕분에, 진공을 깨지 않고 하나의 코팅기로 여러 프로세스를 실행할 수 있습니다. 동시에 스퍼터 헤드와 고급 탄소 실 증발기(carbon thread evaporator)를 결합하거나 하나의 처리 프로세스에서 다층 금속 코팅을 할 수 있도록 두 개의 스퍼터 소스를 선택할 수 있습니다.

  • 두 개의 각진 포트가 있는 최적화된 두 개 소스 컨셉과 회전 스테이지 덕분에, 전체 100mm 스테이지에 걸쳐 균일하게 분포된 박막을 만들 수 있음
  • 견고한 탄소 실, 전자 빔 그리고 스퍼터 코팅기 소스 중에서 선택 가능
  • EM ACE600에 글로우 방전 스퍼터링 장착 가능
  • 현장에서 언제든지 품질을 향상시킬 수 있음
두 개의 소스를 위해 구성 가능한 ACE600 포트. 다음 중 선택하십시오: 1-탄소 실 증발(carbon thread evaporation) | 2-스퍼터링(sputtering) | 3-탄소 봉 증발(carbon rod evaporation) | 4-전자 빔 증발(e-beam evaporation)
두 개의 소스를 위해 구성 가능한 ACE600 포트. 다음 중 선택하십시오: 1-탄소 실 증발(carbon thread evaporation) | 2-스퍼터링(sputtering) | 3-탄소 봉 증발(carbon rod evaporation) | 4-전자 빔 증발(e-beam evaporation)

준비 과정의 중요한 부분에 집중 유지

EM ACE600 탄소와 스퍼터 코팅기를 이용해서 일상적인 시료 처리를 버튼 하나를 눌러서 끝낼 수 있습니다. 간단하고 신뢰할 수 있는 워크플로우와 편리한 일반적인 사용 절차로 중요한 전자현미경 시료 처리 부분에 집중할 수 있습니다. 워크플로우를 최적화하는 데 집중할 수 있고 시스템 작동 방법을 배우거나 다른 사람에게 사용 방법을 교육하는데 소요되는 시간을 줄일 수 있습니다.

  • 전면 도어를 통해 민감한 시료를 안전하게 로딩 및 언로딩
  • 워크플로우 기반 사용자 인터페이스와 관련 매개변수에 빠르게 액세스가 방법을 안내
  • 일상적인 취급에 편리한 가볍고 견고한 소스
EM ACE600 터치 스크린 작업과 워크플로우 기반 사용자 인터페이스
EM ACE600 터치 스크린 작업과 워크플로우 기반 사용자 인터페이스

극저온 워크플로우로 확장

극저온 조건에서 시료를 코팅함으로써 실험실을 모든 범위의 전자현미경 실험이 가능하게 합니다. EM ACE600 탄소 및 스퍼터 코팅기는 EM VCT500 운반 시스템의 도움으로 동결 파단 및 극저온 코팅 후 SEM으로 극저온 시료 운반해서 생물 시료의 자연 그대로 물이 포함된 상태에서 구조 분석과 같은 연구를 하기 위한 시료 처리를 가능하게 합니다.

EM ACE600은 다음을 제공합니다:

  • 극저온 시료 운반을 위한 인터페이스
  • 극저온 조건에서 코팅하기 위한 극저온 스테이지
  • 기본 파단 장치
EM VCT500 극저온 운반 시스템이 장착된 EM ACE600
EM VCT500 극저온 운반 시스템이 장착된 EM ACE600

최적의 구성을 선택

EM ACE600 탄소와 스퍼터 코팅기 구성해서 일상적인 실험실 작업의 요구 사항을 충족시키십시오.

다양한 시료 홀더들과 최대 3개의 전동 축이 있는 3축 스테이지 또는 전용 냉각스테이지와 같은 스테이지에서 선택하십시오.

빠르게 교체 가능한 스테이지 판(plate)들이 EM ACE600을 다목적 툴로 만듭니다.

1: 전동식 3축 스테이지(motorized 3 axis stage) | 2: 회전 음영 처리(rotary shadowing, LARS-) 스테이지 | 3: 회전되는 "수동" 스테이지(rotary "manual" stage) | 4: 극저온 스테이지(cryo stage)
1: 전동식 3축 스테이지(motorized 3 axis stage) | 2: 회전 음영 처리(rotary shadowing, LARS-) 스테이지 | 3: 회전되는 "수동" 스테이지(rotary "manual" stage) | 4: 극저온 스테이지(cryo stage)

초박 탄소 필름

탄소 코팅은 전자 현미경 검사를 위한 다양한 응용 분야에 적용할 수 있습니다. 전도성이 있어야 하지만 전자 빔에서는 보이지 않고 입자 구조를 가지지 않아야 한다.

EM ACE600 탄소 실과 조정될 수 있는 펄싱으로 만들어진 박막은 두께가 정확하고, 강도가 높고, 전도성이 있으며 추가 오염을 줄이기 위해 오염을 줄이기 위해 심지어 베이크아웃을 할 수 있습니다. 궁극적으로 이러한 필름은 다음을 제공합니다:

  • 전자에 대한 높은 투명도(성)
  • 전자 충격에 견딜 수 있는 충분한 강도
  • 분석 조사나 정량적 이미징 또는 전자 단층 촬영에 중요한 균일한 두께
A: 기존 탄소 필름(15nm 탄소), B: 초박 탄소 필름(3nm). CdSe 양자 판의 격자(lattice)를 쉽게 관찰할 수 있음. 벨기에(Antwerp 대학교, EMAT)에서 Eva Bladt와 Sara Bals가 획득한 이미지. 제공: Frederic Leroux와 Jan de Weert. 시료 제공: Utrecht 대학교, Debye Institute for Nanomaterials Science에 Daniel Vanmaekelbergh
A: 기존 탄소 필름(15nm 탄소), B: 초박 탄소 필름(3nm). CdSe 양자 판의 격자(lattice)를 쉽게 관찰할 수 있음. 벨기에(Antwerp 대학교, EMAT)에서 Eva Bladt와 Sara Bals가 획득한 이미지. 제공: Frederic Leroux와 Jan de Weert. 시료 제공: Utrecht 대학교, Debye Institute for Nanomaterials Science에 Daniel Vanmaekelbergh

회전 음영 처리(Rotary Shadowing) - 나노 크기 구조를 가시화함

투과전자현미경(TEM)에서 단백질 또는 DNA 가닥과 같은 나노미터 크기의 구조를 이미지화 할 수 있도록 전용 저각 회전 음영 처리(LARS) 설정으로 EM ACE600을 구성하십시오. EM ACE600 전자 빔 소스는 전동식 LARS 스테이지와 함께 방향성이 있고, 열 영향이 적은 박막 증착과 입사 도포를 스치듯 하기 위한 최적화된 스테이지 구조를 갖추고 있습니다. DNA 가닥이 낮은 각도에서 미세 입자로된 백금 층으로 음영 처리(shadowing) 코팅되고 나면, TEM에서 분석하기을 위한 약한 구조를 안정화 시키기 위해 탄소 막을 추가합니다.

EM ACE600 전자 빔 코팅기로 낮은 각도의 회전 음영 처리 (low angle rotary shadowing)로 얻은 발아 효모 S.cerevisiae의 DNA 복제 포크 TEM 사진
EM ACE600 전자 빔 코팅기로 낮은 각도의 회전 음영 처리 (low angle rotary shadowing)로 얻은 발아 효모 S.cerevisiae의 DNA 복제 포크 TEM 사진

실험에 적합한 워크플로우 선택

EM ACE600은 재료 과학 및 생물학적 실험을 수행할 때 고품질 결과를 얻을 수 있도록 도와줍니다. 워크플로우는 기본적인 TEM 및 SEM 시료 처리부터 단층 촬영 3D 워크플로우, FIB SEM 등에 이르기까지 다양합니다. 다음 워크플로우 솔루션에 대한 자세한 정보:

  • 생명 과학 연구는 이 워크플로우 책자를 다운로드하십시오
  • 재료 과학 연구는 이 워크플로우 책자를 다운로드하십시오

기본적인 SEM 워크플로우

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기본적인 SEM 워크플로우

기본적인 SEM 워크플로우로 화학 고정된 시료들의 표면 구조를 조사하십시오. EM TP 조직 처리기로 시료를 처리한 후, EM CPD300으로 임계점 건조시킵니다. 그다음 단계는 EM ACE200 또는 EM ACE600으로 시료들을 코팅한 후, SEM에서 이미징합니다.

(1) 자동화된 조직 처리(EM TP) | (2) 자동화된 임계점 건조(EM CPD300) | (3) 탄소 및/또는 스퍼터 코팅(EM ACE200 / EM ACE600) | (4) SEM에서의 이미지 분석
(1) 자동화된 조직 처리(EM TP) | (2) 자동화된 임계점 건조(EM CPD300) | (3) 탄소 및/또는 스퍼터 코팅(EM ACE200 / EM ACE600) | (4) SEM에서의 이미지 분석

SEM / LM 고체 상태 시료 처리

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SEM / LM 고체 상태 시료 처리 - 넓은 이온 빔 단면 절단

이 기술은 고체 상태의 주사전자현미경(SEM) 시료에 가장 일반적으로 사용되지만, 광학현미경(LM) 조사에도 활용될 수 있습니다. 시료가 관찰을 위해서 노출되어야 할 특정 타겟이 있는 경우, 관심 영역의 내부 구조를 얻기 위해 시료를 잘 잘라야 합니다. 이후, 비전도성 시료의 경우, SEM 관찰에 적합하도록 시료를 코팅해야 합니다.

(1)– (3) 단면 자르기, 타겟 처리, 갈아내기 (EM TXP) | (4) & (5) 이온 빔 밀링 & 고급 연마 (EM TIX 3X 또는 EM RES102) | (6) 코팅 (EM ACE200 / EM ACE600) | (7) SEM 분석
(1)– (3) 단면 자르기, 타겟 처리, 갈아내기 (EM TXP) | (4) & (5) 이온 빔 밀링 & 고급 연마 (EM TIX 3X 또는 EM RES102) | (6) 코팅 (EM ACE200 / EM ACE600) | (7) SEM 분석

극저온 SEM 시료 처리 및 운반

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극저온 SEM 시료 처리 및 운반 - 넓은 이온 빔 단면 절단

이 극저온 운반 워크플로우는 단단하고 부서지기 쉬운 재료 (예: 석영 함유 점토 등)을 함유하고 있는 고압 동결 시료를 위해 사용됩니다. 시료는 고압 동결부터 극저온 절단(cryo-saw)를 이용한 기계적 사전 처리, 이어서 진행되는 이온 빔 밀링 단계 그리고 Cryo-SEM으로 마지막으로 시료를 운반할 때까지, 전체 처리 과정 동안 -150°C로 유지되어야 합니다.

(1) 고압 동결(EM ICE) | (2)- (3) 단면 절단 & 자르기(EM VCM) | (4) 운반(EM VCT500) | (5) 이온빔 밀링(EM TIC 3X) | (6) 운반(EM VCT500) | (7) 코팅(EM ACE600) | (8) Cryo-SEM 분석
(1) 고압 동결(EM ICE) | (2)- (3) 단면 절단 & 자르기(EM VCM) | (4) 운반(EM VCT500) | (5) 이온빔 밀링(EM TIC 3X) | (6) 운반(EM VCT500) | (7) 코팅(EM ACE600) | (8) Cryo-SEM 분석

SEM / LM 고체 상태 시료 처리

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SEM / LM 고체 상태 시료 처리 - 넓은 이온 빔 연마

이 기술은 큰 고체 상태의 SEM 또는 LM 시료에 사용됩니다. 시료의 넓은 영역(몇 cm2)을 최고 품질 수준에서 조사해야 하는 경우(예: EBSD), 시료는 기계적으로 사전 처리(거울 면과 같이 마무리)하고 최종 이온 빔 연마 방법으로 처리됩니다.

박편 단층 촬영 3D 워크플로우

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박편 단층 촬영 3D 워크플로우

이 워크플로우를 이용하면 정의된 3D 볼륨 내에서 생물학적 구조의 조직 및 상호 작용을 연구할 수 있습니다. 첫 번째 단계는 실온에서 시료를 처리한 후, TEM 그리드 위에 어느 정도 두께의 연속 절편을 만듭니다. 염색(staining) 단계 이후에는 TEM 이미징을 진행합니다.

(1) 자동화된 조직 처리(EM TP) | (2) 트리밍(EM TRIM2) | (3) 연속 절편(EM UC7) | (4) 염색(EM AC20) | (5) TEM에서의 이미지 분석
(1) 자동화된 조직 처리(EM TP) | (2) 트리밍(EM TRIM2) | (3) 연속 절편(EM UC7) | (4) 염색(EM AC20) | (5) TEM에서의 이미지 분석

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