EM TIC 3X Système de broyage par faisceau d’ions configurable

Le polissage par faisceau d’ions (ion beam milling) est une technique de préparation d’échantillons qui utilise des ions d’argon à haute énergie pour enlever de la matière de la surface d’un échantillon. Le système EM TIC 3X utilise un système à triple faisceau d’ions large pour créer des surfaces de haute qualité pour le MEB, l’EBSD et d’autres techniques de microscopie.

Le système EM TIC 3X permet d’obtenir des surfaces sans artefact, ce qui est essentiel pour l’imagerie via microscope électronique à balayage à haute résolution. Sa conception à triple faisceau d’ions garantit un broyage uniforme et un minimum de dommages à l’échantillon, ce qui le rend idéal pour les sciences des matériaux et l’analyse des défaillances.

Le système convient à une large gamme de matériaux, y compris les métaux, les céramiques, les polymères, les composites et les échantillons biologiques. Il traite les matériaux durs et mous avec une grande précision.

La configuration à trois faisceaux permet un polissage simultané sous trois angles, ce qui réduit la redéposition et les stries, et améliore la planéité de la surface. Il en résulte une qualité d’imagerie supérieure et des résultats d’analyse plus précis.

Oui, le système prend en charge les étapes de transfert cryogénique et sous vide, ce qui permet de préparer des échantillons sensibles à la température ou à l’air sans exposition à l’air ou changements structurels liés à la température.

Il peut traiter des échantillons faisant jusqu'à 25 x 20 x 5 mm (épaisseur), ce qui le rend polyvalent pour diverses applications industrielles et de recherche.

Oui, il s’intègre parfaitement au système EM TXP pour la préparation mécanique, ce qui permet un flux de travail complet : découpe, polissage et broyage ionique final. Il est aussi compatible avec le système de transfert EM VCT500 et le système de revêtement EM ACE600, ce qui permet d’obtenir un flux de travail complet et rationalisé pour la préparation des surfaces.

Le polissage par faisceau d’ions permet d’obtenir des surfaces plus propres et plus uniformes, avec moins d’artefacts. Il est particulièrement utile pour les matériaux délicats ou hétérogènes qui risquent d’être endommagés par les méthodes mécaniques.

Le polissage ionique est un procédé d’attaque physique utilisé pour enlever de la matière de la surface d’un échantillon à l’aide d’un faisceau concentré d’ions, généralement de l’argon. Il est principalement utilisé en microscopie électronique pour préparer des surfaces ou des coupes transversales très lisses et sans artefacts pour l’imagerie et l’analyse à haute résolution.

Avantages :

• Permet d’obtenir des surfaces propres et exemptes de dommages
• Convient aux matériaux durs, mous et hétérogènes
• Idéal pour le lissage et le polissage des sections transversales créées par des méthodes mécaniques (par exemple, avec le système EM TXP)
• Méthode sans contact, réduisant les contraintes mécaniques

Limites :

• Plus lent que les méthodes mécaniques pour l’enlèvement en vrac
• L’équipement peut être coûteux et nécessite des systèmes d’aspiration
• Pas idéal pour l’enlèvement de matériaux à grande échelle

Le polissage par faisceau d’ions fonctionne en accélérant des ions (généralement de l’argon) vers la surface d’un échantillon dans un vide. L’énergie cinétique des ions élimine physiquement les atomes de la surface, ce qui permet l’enlèvement de matière contrôlé. Ce processus est hautement directionnel et précis, ce qui le rend idéal pour l’analyse microstructurale.