Dispositivo di rivestimento sputter Leica EM ACE600

Sistema di rivestimento ad alto vuoto per un'ampia gamma di applicazioni

Dotato di una camera di processo in metallo configurabile, lo Sputter Coater EM ACE600 è flessibile e può essere adattato ad una vasta gamma di applicazioni. Raggiungi gli obiettivi del tuo flusso di lavoro e soddisfa le esigenze del tuo laboratorio utilizzando fino a due sorgenti diverse in un unico processo di preparazione o anche configurando l'EM ACE600 per flussi di lavoro criogenici avanzati.

Se hai bisogno di...

  • Eseguire imaging ad alta risoluzione di campioni non conduttivi piani o strutturati
  • Migliora il contrasto delle strutture nanometriche, come proteine o filamenti di DNA
  • Produrre strati di supporto sottili ma resistenti per le griglie TEM o
  • Fornire strati protettivi per campioni sensibili
  • Ampliare il sistema per applicazioni criogeniche

… con l'EM ACE600 carbon o Sputter Coater hai tutto sotto controllo.

EM ACE600 carbon, fascio elettronico e Sputter Coater con dock di trasferimento criogenico
EM ACE600 carbon, fascio elettronico e Sputter Coater con dock di trasferimento criogenico

Sputter coating

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Pellicole sottili di alta qualità riproducibili con sputter coating

Con il sistema di rivestimento ad alto vuoto EM ACE600 è possibile produrre pellicole sottili di alta qualità con rivestimento sputter. Soddisfa le giuste condizioni per le tue esigenze di rivestimento avanzate e ottieni risultati riproducibili grazie al processo di rivestimento sputter automatizzato basato su ricevuta.

Esegui un'analisi SEM ad alto ingrandimento fino a 200kX e oltre, con un eccellente vuoto di base pari a <2x10-6 mbar e parametri di processo finemente bilanciati per una gamma di target sputter. Regola la distanza del campione e l'angolo di rivestimento in base alle esigenze della morfologia del campione.

Per migliorare ulteriormente i risultati del rivestimento, è possibile utilizzare una trappola Meissner per aumentare il vuoto a un regime di 10-7 mbar, e quindi provare i bersagli sputter o i materiali del campione che sono sensibili all'ossigeno.

Rivestimenti sputter a grana fine di 2 nm di spessore di materiali diversi depositati sul substrato SiOx, ingrandimento 200kX.
Rivestimenti sputter a grana fine di 2 nm di spessore di materiali diversi depositati sul substrato SiOx, ingrandimento 200kX.

Carbon coating

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Pellicole sottili di alta qualità riproducibili con carbon coating

Con EM ACE600 è possibile produrre pellicole in carbonio di alta qualità utilizzando un rivestimento in filo di carbonio, un rivestimento in barra di carbonio o l'evaporazione a fascio elettronico.

L'evaporazione in filo di carbonio è un metodo ampiamente utilizzato da quando

Leica Microsystems ha sviluppato l'esclusivo approccio adattivo a impulsi implementato nell'EM ACE600. È in grado di produrre pellicole precise, robuste e amorfe con uno spessore inferiore al nanometro, riducendo al minimo l'impatto del calore sul campione. Se avete bisogno di strati di supporto TEM sottili al nanometro, resistenti e puliti, di rivestimenti diffusi (di protezione) o di grandi strati di carbonio omogenei, il filo di carbonio è la scelta giusta.

Per applicazioni dedicate, come l'ombreggiatura rotante, è possibile utilizzare l'evaporatore a fascio elettronico. La sua piccola divergenza del fascio è ideale per il rivestimento in ombra per migliorare il contrasto dei bordi delle strutture su scala nanometrica.

Accurata deposizione del carbonio di strati di carbonio di 1-5 nm di spessore
Accurata deposizione del carbonio di strati di carbonio di 1-5 nm di spessore

Adatta l'EM ACE600 alle tue esigenze

Eseguite più di un processo in un singolo strumento di verniciatura senza interrompere il vuoto, grazie all'ampia camera di processo metallica configurabile di EM ACE600. È possibile combinare contemporaneamente una testa sputter con un evaporatore a filo di carbonio avanzato o scegliere due sorgenti sputter per ottenere rivestimenti metallici multistrato in un unico processo di preparazione.

  • Produzione di film sottili uniformemente distribuiti su tutto lo stadio da 100 mm grazie al concetto ottimizzato di due sorgenti con due porte angolate e uno tavolino rotante
  • Scegli tra sorgenti di rivestimento in filo di carbonio, a fascio elettronico e sputter
  • Equipaggia il tuo EM ACE600 con il glow discharge sputtering
  • Aggiornabile in loco in qualsiasi momento
Porte configurabili ACE600 per due sorgenti. Scegli tra: 1-Evaporazione in filo di carbonio |2-Sputtering | 3-Evaporazione a barre di carbonio | 4-Evaporazione a fascio elettronico
Porte configurabili ACE600 per due sorgenti. Scegli tra: 1-Evaporazione in filo di carbonio |2-Sputtering | 3-Evaporazione a barre di carbonio | 4-Evaporazione a fascio elettronico

Concentrati sulle parti critiche del tuo processo di preparazione

La preparazione di routine dei campioni può essere eseguita con la semplice pressione di un tasto utilizzando il dispositivo per rivestimento sputter e in carbonio EM ACE600. I flussi di lavoro semplici e affidabili e le pratiche procedure operative standard ti permettono di concentrarti sulle parti critiche della preparazione dei campioni EM. Puoi concentrarti sull'ottimizzazione del flusso di lavoro e dedicare meno tempo all'apprendimento del funzionamento del sistema o alla formazione di altri operatori sull'utilizzo.

  • Carico e scarico sicuri di campioni sensibili tramite lo sportello frontale
  • Un'interfaccia utente basata sul flusso di lavoro e l'accesso rapido ai parametri rilevanti guidano lungo il percorso
  • Sorgenti leggere e robuste per una comoda gestione quotidiana
Funzionamento con touch screen dell'EM ACE600 con interfaccia utente basata sul flusso di lavoro
Funzionamento con touch screen dell'EM ACE600 con interfaccia utente basata sul flusso di lavoro

Espansione ai flussi di lavoro criogenici

Apri il tuo laboratorio a una gamma completa di esperimenti di microscopia elettronica rivestendo i tuoi campioni in condizioni criogeniche. L'EM ACE600 carbon and sputter coater supporta la preparazione dei campioni per la ricerca, come l'analisi strutturale di campioni biologici allo stato nativo e idratato, eseguendo la frattura per congelamento e il crio rivestimento, seguito dal trasferimento del campione al SEM con l'aiuto del sistema di trasferimento EM VCT500.

EM ACE600 offre:

  • Un'interfaccia per il trasferimento criogenico dei campioni
  • Uno stadio criogenico per il rivestimento in condizioni criogeniche
  • Un dispositivo di base per fratture
EM ACE600 dotato di sistema di trasferimento criogenico EM VCT500
EM ACE600 dotato di sistema di trasferimento criogenico EM VCT500

Scegli la configurazione ottimale

Soddisfate le esigenze del vostro lavoro quotidiano di laboratorio configurando il vostro EM ACE600 carbon and sputter coater.

Scegliete tra un'ampia selezione di portacampioni e stages, come lo stage a 3 assi con un massimo di 3 assi motorizzati o lo stage di raffreddamento dedicato.

Le piastre di appoggio rapidamente intercambiabili rendono l'EM ACE600 uno strumento multiuso.

1: Stage a 3 assi motorizzato | 2: Stage per ombreggiatura rotante (LARS) | 3: Stage per rotazione "manuale" | 4: Supporto criogenico
1: Stage a 3 assi motorizzato | 2: Stage per ombreggiatura rotante (LARS) | 3: Stage per rotazione "manuale" | 4: Supporto criogenico

Pellicole di carbonio ultra sottili

Il rivestimento in carbonio ha molteplici applicazioni per la microscopia elettronica. Deve essere conduttivo, ma invisibile per il fascio di elettroni e non deve avere una struttura a grani.

I film sottili prodotti dal filo di carbonio EM ACE600 con pulsazione adattiva hanno uno spessore preciso, sono resistenti, conduttivi e possono anche essere cotti per ridurre ulteriormente la contaminazione. Infine, tali pellicole offrono:

  • Elevata trasparenza agli elettroni
  • Resistenza adeguata per resistere al bombardamento di elettroni
  • Spessore uniforme, fondamentale per indagini analitiche, imaging quantitativo o tomografia elettronica
A: Pellicola di carbonio convenzionale (15 nm in carbonio); B: Pellicola di carbonio ultrasottile (3 nm). Facile osservazione del reticolo delle piastre quantiche di CdSe. Immagini acquisite da Eva Bladt e Sara Bals (EMAT, Università di Anversa), Belgio. Per gentile concessione di: Frederic Leroux e Jan de Weert. Campione su gentile concessione di: Daniel Vanmaekelbergh, Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht
A: Pellicola di carbonio convenzionale (15 nm in carbonio); B: Pellicola di carbonio ultrasottile (3 nm). Facile osservazione del reticolo delle piastre quantiche di CdSe. Immagini acquisite da Eva Bladt e Sara Bals (EMAT, Università di Anversa), Belgio. Per gentile concessione di: Frederic Leroux e Jan de Weert. Campione su gentile concessione di: Daniel Vanmaekelbergh, Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht

Ombreggiatura rotante - rende visibili le nanostrutture

Configurate il vostro EM ACE600 con una configurazione dedicata per l'ombreggiatura rotante a basso angolo (LARS), in modo da poter immaginare strutture in scala nanometrica, come proteine o filamenti di DNA, nel TEM. La sorgente EM ACE600 e-beam, insieme a uno stage LARS motorizzato, combina la deposizione di film sottili a basso impatto termico con una geometria ottimizzata degli stage per la deposizione a incidenza radente. Quando i filamenti di DNA sono ombreggiati a un angolo ridotto con uno strato di platino a grana fine, viene aggiunto uno strato di carbonio per stabilizzare le fragili strutture da analizzare nel TEM.

Immagine TEM di replicazione del DNA del lievito in erba S.cerevisiae ottenuta utilizzando l'ombreggiatura rotante a basso angolo con l'EM ACE600 e-beam coater
Immagine TEM di replicazione del DNA del lievito in erba S.cerevisiae ottenuta utilizzando l'ombreggiatura rotante a basso angolo con l'EM ACE600 e-beam coater

Scegli il flusso di lavoro più adatto al tuo esperimento

L'EM ACE600 consente di ottenere risultati di alta qualità nella conduzione di esperimenti di scienza dei materiali e biologici. I flussi di lavoro vanno dalla preparazione standard dei campioni TEM e SEM ai flussi di lavoro per la tomografia di sezione 3D, al FIB SEM e altro ancora. Per ulteriori informazioni sulle soluzioni di flusso di lavoro per la

  • ricerca nel settore "life science", scarica il nostro opuscolo dedicato
  • ricerca sulla scienza dei materiali, scarica il nostro opuscolo dedicato

Standard SEM Workflow

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Flusso di lavoro SEM standard

Indagare l'architettura superficiale dei campioni fissati chimicamente con il flusso di lavoro SEM standard. Preparate i vostri campioni con il processatore di tessuti EM TP e essicateli successivamente al punto critico con l'EM CPD300. Il passo successivo è rivestire i campioni con l'EM ACE200 o l'EM ACE600 ed eseguire di seguito l’imaging nel SEM.

(1) Processazione automatizzata dei tessuti (EM TP) | (2) Essiccazione automatica al punto critico (EM CPD300) | (3) Rivestimento in carbonio e/o sputter (EM ACE200 / EM ACE600) | (4) Analisi delle immagini nel SEM
(1) Processazione automatizzata dei tessuti (EM TP) | (2) Essiccazione automatica al punto critico (EM CPD300) | (3) Rivestimento in carbonio e/o sputter (EM ACE200 / EM ACE600) | (4) Analisi delle immagini nel SEM

SEM / LM Solid State Preparation

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Preparazione dello stato solido SEM/LM - Sezionamento trasversale a fascio ionico ampio

Questa tecnica è più comunemente utilizzata per i campioni SEM allo stato solido, ma può essere applicata anche alle analisi LM. Quando il campione ha un determinato obiettivo da esporre per l'osservazione, il campione deve essere ben tagliato per ottenere la struttura interna della parte di interesse. In seguito, per i campioni non conduttivi, è necessario un rivestimento per rendere il campione adatto all'analisi SEM.

(1)-(3) Sezionamento trasversale, preparazione del target, rettifica (EM TXP) | (4) e (5) Ion Beam Milling & lucidatura di alto livello (EM TIX 3X o EM RES102) | (6) Rivestimento (EM ACE200 / EM ACE600) | (7) Analisi SEM
(1)-(3) Sezionamento trasversale, preparazione del target, rettifica (EM TXP) | (4) e (5) Ion Beam Milling & lucidatura di alto livello (EM TIX 3X o EM RES102) | (6) Rivestimento (EM ACE200 / EM ACE600) | (7) Analisi SEM

Cryo-SEM Sample Preparation and Transfer

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Preparazione e trasferimento dei campioni Cryo-SEM - Sezionamento trasversale a fascio ionico ampio

Questo flusso di lavoro per il trasferimento criogenico viene utilizzato per i campioni congelati ad alta pressione, compresi i materiali duri e fragili (ad esempio argilla e quarzo). Il campione deve essere mantenuto a una temperatura di -150Il campione deve essere mantenuto a una temperatura di -150 °C durante l'intero processo di preparazione, dal congelamento ad alta pressione, alla pre-preparazione meccanica con la crio-sega, seguita da una fase di ion beam milling e infine dal trasferimento al Cryo-SEM.

(1) Congelamento ad alta pressione (EM ICE) | (2)-(3) Sezionamento trasversale e taglio (EM VCM) | (4) Trasferimento (EM VCT500) | (5) Taglio a fascio ionico (EM TIC 3X) | (6) Trasferimento (EM VCT500) | (7) Rivestimento (EM ACE600) | (8) Analisi Cryo-SEM
(1) Congelamento ad alta pressione (EM ICE) | (2)-(3) Sezionamento trasversale e taglio (EM VCM) | (4) Trasferimento (EM VCT500) | (5) Taglio a fascio ionico (EM TIC 3X) | (6) Trasferimento (EM VCT500) | (7) Rivestimento (EM ACE600) | (8) Analisi Cryo-SEM

SEM / LM Solid State Preparation

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Preparazione dello stato solido SEM/LM - Lucidatura a fascio ionico ampio

Questa tecnica viene utilizzata per campioni SEM o LM a stato solido di grandi dimensioni. Quando un'ampia area (diversi cm2) del campione deve essere studiata al massimo livello qualitativo (ad esempio, EBSD), il campione viene pre-preparato meccanicamente (finitura a specchio) e infine preparato con il metodo di ion beam polishing.

(1) e (2) Rivestimento e lucidatura (EM TXP) | (3) e (4) Taglio a fascio ionico & Preparazione della superficie esente da difetti (EM TIC 3X o EM RES102) | (5) Rivestimento (EM ACE200 / EM ACE600) | (6) Analisi SEM
(1) e (2) Rivestimento e lucidatura (EM TXP) | (3) e (4) Taglio a fascio ionico & Preparazione della superficie esente da difetti (EM TIC 3X o EM RES102) | (5) Rivestimento (EM ACE200 / EM ACE600) | (6) Analisi SEM

Section Tomography 3D Workflow

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Flusso di lavoro con tomografia 3D a sezioni

Con questo flusso di lavoro è possibile studiare l'organizzazione e l'interazione delle strutture biologiche all'interno di un volume 3D definito. Il primo passo consiste nel trattare i campioni a temperatura ambiente. Solo successivamente, eseguire il sezionamento seriale semi-spesso su griglie TEM. Dopo la fase di colorazione, procedere con l'imaging TEM.

(1) Processazione automatizzata dei tessuti (EM TP) | (2) Sgrossatura (EM TRIM2) | (3) Sezionamento seriale (EM UC7) | (4) Colorazione (EM AC20) | (5) Analisi delle immagini nel TEM
(1) Processazione automatizzata dei tessuti (EM TP) | (2) Sgrossatura (EM TRIM2) | (3) Sezionamento seriale (EM UC7) | (4) Colorazione (EM AC20) | (5) Analisi delle immagini nel TEM

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