より早く検出することで、より早くアクション
マイクロエレクトロニクスおよび半導体製造に最適な検査システム DM3 XL
マイクロエレクトロニクスおよび半導体産業製造において、ルーチンの検査、工程管理、欠陥解析は、さらにスピーディーに行うことが求められています。欠陥箇所を早く検出することで、次の対応をより早く実施することができます。
30% 広い視野で
DM3 XL 検査システムはユニークなマクロ対物レンズの採用で、これまでより 30% 大きな視野で観察できます。
マイクロエレクトロニクスおよび半導体産業製造において、ルーチンの検査、工程管理、欠陥解析は、さらにスピーディーに行うことが求められています。欠陥箇所を早く検出することで、次の対応をより早く実施することができます。
30% 広い視野で
DM3 XL 検査システムはユニークなマクロ対物レンズの採用で、これまでより 30% 大きな視野で観察できます。