
より早く検出することで、より早くアクション
マイクロエレクトロニクスおよび半導体製造に最適な検査システム DM3 XL
マイクロエレクトロニクスおよび半導体産業製造において、ルーチンの検査、工程管理、欠陥解析は、さらにスピーディーに行うことが求められています。欠陥箇所を早く検出することで、次の対応をより早く実施することができます。
30% 広い視野で
DM3 XL 検査システムはユニークなマクロ対物レンズの採用で、これまでより 30% 大きな視野で観察できます。
ライカクオリティの高い光学性能
DM3 XL はコストパフォーマンスに優れています。
- 標準機能の斜照明で側面やエッジの詳細を観察できます。たとえば、様々な角度から試料に照明をあてることで、トポグラフィを明らかにすることができます。
- 表面の微小なキズや微細粒子を暗視野で観察
飛躍的に向上した感度と解像度に驚かれることでしょう。
対物レンズのラインナップについては以下をご覧ください:Leica Optics Center.