Leica EM SCD500 Pulvérisateur cathodique sous vide très poussé pour l'analyse MEB à effet de champ de la plus haute résolution
Contactez-nous
Leica EM SCD500
Solutions de pulvérisation cathodique et de cryofracture
Préparation d’échantillons pour MET/MEB
Produits
Accueil
Leica Microsystems
Leica EM SCD500 Pulvérisateur cathodique sous vide très poussé pour l'analyse MEB à effet de champ de la plus haute résolution
Produit archivé
Remplacé par
Leica EM ACE600
Le Leica EM SCD500 est un système de dépôt de couche sous vide très poussé versatile destiné à produire des films métalliques ultraminces, à grains fins et des revêtements de carbone conducteur pour l'analyse MEB à effet de champ à la plus haute résolution.
Le Leica EM SCD500 offre plusieurs options de conversion en une seule unité ; pulvérisation cathodique sous vide poussée, fibre de carbone, résistance thermique et évaporation de la tige de carbone, cryo préparation pour la lyophilisation, cryofracture, gravure, double réplique, cryo-revêtement et cryo-transfert sous vide avec le Leica EM VCT100.
For research use only
