ゼブラフィッシュを用いた研究
スクリーニング、ソーティング、マニピュレーションおよびイメージングを通じて最良の結果を得るためには、細部や構造を観察して、研究の次の段階に向けて正しい判断を下す必要があります。
優れた光学系と高解像度で定評のあるライカの実体顕微鏡と透過照明スタンドは、世界中の研究者から支持されています。
レーザーマイクロダイセクション
小動物などの解剖を行うとき、顕微鏡の接眼レンズを何時間ものぞくことがあります。 ライカ マイクロシステムズでは、さまざまな顕微鏡と幅広い解剖顕微鏡部品やアクセサリーから選ぶことができるため、ニーズに最適な顕微鏡ソリューションを見つけることができます。
顕微鏡を知る：被写界深度
顕微鏡において被写界深度は、凹凸の変化が⼤きい構造を持つ試料をピントがあったシャープに観察・撮像するために重要なパラメータです。被写界深度は、開⼝数、解像度、倍率の相関関係によって決定され、解像度とパラメータは反⽐例の関係にあります。被写界深度と解像度のバランスが最適になるように調整することができる顕微鏡もあります。
Rapidly Visualizing Magnetic Domains in Steel with Kerr Microscopy
The rotation of polarized light after interaction with magnetic domains in a material, known as the Kerr effect, enables the investigation of magnetized samples with Kerr microscopy. It allows rapid…
6-Inch Wafer Inspection Microscope for Reliably Observing Small Height Differences
A 6-inch wafer inspection microscope with automated and reproducible DIC (differential interference contrast) imaging, no matter the skill level of users, is described in this article. Manufacturing…
Visualizing Photoresist Residue and Organic Contamination on Wafers
As the scale of integrated circuits (ICs) on semiconductors passes below 10 nm, efficient detection of organic contamination, like photoresist residue, and defects during wafer inspection is becoming…
Burr Detection During Battery Manufacturing
See how optical microscopy can be used for burr detection on battery electrodes and determination of damage potential to achieve rapid and reliable quality control during battery manufacturing.
Key Factors for Efficient Cleanliness Analysis
An overview of the key factors necessary for technical cleanliness and efficient cleanliness analysis concerning automotive and electronics manufacturing and production is provided in this article.
Rapid Semiconductor Inspection with Microscope Contrast Methods
Semiconductor inspection during the production of patterned wafers and ICs (integrated circuits) is important for identifying and minimizing defects. To increase the efficiency of quality control in…
